《經濟通通訊社１２日專訊》南韓水原地方檢察廳日前以違反《產業技術保護法》和《不正
當競爭防止法》的罪名，起訴一名曾在三星電子任職高管的６５歲人士，同案另有六名被告。五
人為該前三星高管的在華公司員工，另外一人則為三星電子合作公司職員，其被指洩漏三星公司
設計圖。
根據控罪，該名三星電子高管在２０１８至２０１９年期間竊取大量商業機密，包括三星電
子半導體工廠基本工程數據、工藝流程圖、設計圖，並在中國陝西省西安市興建一座複製版的三
星晶片工廠，不過由於當初承諾投資的台灣企業沒有落實投資，工廠項目沒能實際進行。不過根
據《韓聯社》報道，這人已獲得投資，在中國四川省成都市建設一座半導體製造工廠，並已經生
產出樣品。
據報被控的這名前三星高管曾任三星電子常務、ＳＫ海力士副社長，在南韓半導體製造領域
具有權威地位。他從南韓聘請了約２００名三星電子、ＳＫ海力士的員工，並指示他們獲取三星
的半導體設計資料，檢方指其對三星電子造成至少２﹒３３億美元的嚴重損失。
半導體行業中互相挖角的情況不罕見，但有權威人物複製前東家的晶片製造工廠，這種情況
則不尋常。南韓水原地方檢察廳亦在聲明中指出「案情非常嚴重」，無論是犯罪規模還是對南韓
半導體產業的損害程度，難以與其他半導體技術洩漏案件進行比較。（ｅｙ）
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