《經濟通通訊社9日專訊》中國商務部昨表示,荷蘭在2023年半導體出口管制措施的基
礎上,進一步擴大對光刻機的管制範圍,中方對此表示不滿。
商務部網站刊登的新聞發言人回應稱,近年來,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安
全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定
,嚴重損害相關國家和企業正當權益,中方對此堅決反對。
發言人又說,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精
神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企
業和雙方共同利益,維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。
荷蘭政府上周五(6日)表示,將擴大對部分光刻機生產商艾司摩爾(ASML)光刻工具
的出口許可要求,從而實際上從美國手中收回對這些工具的管制權,並使兩國的政策保持一致。
涉及工具為ASML 1970i及1980i深紫外光(DUV)浸入式光刻工具。(ry)
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