《經濟通通訊社19日專訊》工信部上周公布重大技術裝備推廣應用指導目錄顯示,其中兩
台深紫外光曝光機(DUV)被外界解讀為可生產8納米及以下芯片,另上海微電子申請一系列
EUV技術專利,可能意味著掌握了製造7納米關鍵能力。不過,有專家認為這樣的說法有待商
榷,且生產良率才是關鍵。
一時間,自媒體瘋傳中國突破美國技術圍堵,但官方卻顯得低調。截至目前,除了工信部發
布的目錄外,尚無任何官方與廠商宣布該消息,也未有實際的應用公開。
有半導體科技媒體表示,從工信部日前發布的曝光機參數來看,並未達到可以生產28納米
芯片的程度,更遑論製造8納米、7納米,會傳出這樣的消息應是網友誤會了參數所代表的含意
。
《BBC》中文網引述半導體研究者、新加坡國立大學商學院和李光耀公共政策學院講師卡
布利的觀點指,目前還沒有決定性證據表示華為擁有這些關鍵技術的全本土供應鏈,可能是找到
了有效規避出口管制的方法,繼續獲得關鍵的外國技術。(ry)
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