工信部上周公布重大技術裝備推廣應用指導目錄顯示，其中兩台深紫外光曝光機（DUV）被外界解讀為可生產8納米及以下芯片，另上海微電子申請一系列EUV技術專利，可能意味著掌握了製造7納米關鍵能力。不過，有專家認為這樣的說法有待商榷，且生產良率才是關鍵。
　　一時間，自媒體瘋傳中國突破美國技術圍堵，但官方卻顯得低調。截至目前，除了工信部發布的目錄外，尚無任何官方與廠商宣布該消息，也未有實際的應用公開。
　　有半導體科技媒體表示，從工信部日前發布的曝光機參數來看，並未達到可以生產28納米芯片的程度，更遑論製造8納米、7納米，會傳出這樣的消息應是網友誤會了參數所代表的含意。
　　《BBC》中文網引述半導體研究者、新加坡國立大學商學院和李光耀公共政策學院講師卡布利的觀點指，目前還沒有決定性證據表示華為擁有這些關鍵技術的全本土供應鏈，可能是找到了有效規避出口管制的方法，繼續獲得關鍵的外國技術。
《經濟通通訊社19日專訊》

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