《經濟通通訊社１９日專訊》工信部上周公布重大技術裝備推廣應用指導目錄顯示，其中兩
台深紫外光曝光機（ＤＵＶ）被外界解讀為可生產８納米及以下芯片，另上海微電子申請一系列
ＥＵＶ技術專利，可能意味著掌握了製造７納米關鍵能力。不過，有專家認為這樣的說法有待商
榷，且生產良率才是關鍵。
　　一時間，自媒體瘋傳中國突破美國技術圍堵，但官方卻顯得低調。截至目前，除了工信部發
布的目錄外，尚無任何官方與廠商宣布該消息，也未有實際的應用公開。
　　有半導體科技媒體表示，從工信部日前發布的曝光機參數來看，並未達到可以生產２８納米
芯片的程度，更遑論製造８納米、７納米，會傳出這樣的消息應是網友誤會了參數所代表的含意
。
　　《ＢＢＣ》中文網引述半導體研究者、新加坡國立大學商學院和李光耀公共政策學院講師卡
布利的觀點指，目前還沒有決定性證據表示華為擁有這些關鍵技術的全本土供應鏈，可能是找到
了有效規避出口管制的方法，繼續獲得關鍵的外國技術。（ｒｙ）

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